半导体材料国产化进程加速 高纯靶材企业迎机遇

　　高纯/超高纯靶材是实现溅射镀膜的关键。主流PVD镀膜技术主要包括溅射镀膜及真空蒸镀，其中溅射镀膜主要用于大面积基板材料镀膜，蒸发镀膜主要用于小尺寸基板材料镀膜，靶材是实现PVD镀膜的关键，并且靶材的纯度直接决定了最终的电子器件或光学元器件的质量和性能，因此提纯及纯度控制是靶材制造的关键，一般要求高纯度、高致密度、成分与组织结构均匀、晶粒尺寸细小，目前溅射靶材产品纯度一般4-6N。

　　上游高纯金属材料长期垄断在美日德企业，国内厂商正努力寻求突破。高纯溅射靶材是随半导体产业的发展而兴起，美、日企业对核心技术严密把控，掌握行业主导权，并且全球半导体工业的区域集聚性造就了溅射靶材企业的聚集度同样较高。下游领域包括半导体、平板显示、LOW-E玻璃等，全球靶材市场规模呈现快速成长的势头。溅射靶材行业受益于下游如平板显示器、半导体、太阳能电池、光磁记录媒体、光学元器件等快速发展，2016年全球溅射靶材市场规模约113.6亿美元，到2019年将超过163亿美元，CAGR达13%。

　　由于长期依赖进口，靶材生产国产化需求日益迫切，将加速本土化发展，国家产业投资基金、各项政策支持，半导体产业链包括材料等都将取得快速进步，并且目前材料国产化率较低，从国家意志层面也有迫切实现国产化的需求。近年来国内面板、半导体产业发展迅速，国内企业在、等企业的努力下，在靶材生产技术及市场方面均取得了突破，已有国内龙头企业打入核心客户产业链中。

　　投资建议：随着此类新兴材料公司的不断上市，溅射靶材领域重点关注江丰电子(国内最大的半导体芯片用溅射靶材生产商，实现从0到1突破)及阿石创(综合型PVD镀膜材料厂商)，关注 (有研亿金：国内规模最大的金属靶材产业基地，多次参与国家项目)、 (四丰电子、晶联光电：钼靶材、ITO靶材国内龙头企业)